封着金属

コバール(KOVAR)

密封性・信頼性を極める封着技術

高い気密性・耐久性を実現する「封着金属」を用いた精密加工を手がけております。電子デバイス、センサーユニット、真空封止部品など、極めて高い気密性が求められる用途向けに、リークフリー性能に優れた製品群を提供しています。

特徴

  • 硬質ガラス、セラミックと熱膨張係数が近い

用途

  • 硬質ガラス
  • セラミック封着用
  • 電子管
  • 電子部品
スクロールできます
特性成分Ni 29 /Co17 /Fe Bal
密度(g/Cm)8.35
融点(℃)1450
電気比抵抗0.49μΩ・m at20℃
熱伝導度(W/m・K)16.7
熱膨張係数(×10-7/℃)30~400℃:45~51、 30~500℃:57~65
磁気変態点430℃
引張強さ(N/mm2)540(A材)
伸び(%)35(A材)
硬さ((Hv)155(A材)
エリクセン値(mm)9
該当規格ASTM-F15
封着用ガラス硼珪酸ガラス
加工機械加工SUS304と同程度の切削性・潤滑油を多めに使い、切削速度小
プレス・絞り打抜き性SUSと同等、深絞り率40%MAX
焼鈍800~1000℃×1/2~1/4h・徐冷
焼鈍条件ドライ水素中
溶接性
加工上の注意封着面に汚れ、疵なき事、油分は完全除去する事。研磨砥粒にSiCを使用すると発泡の原因となる。アルミナを使用する事。
封着作業脱ガス
(吸蔵ガス除去、脱炭、清浄化)
800~900℃×2h
900~1000℃×1/2h
1000~1100℃×1/4h
wet水素中
予備酸化膜の形成800~1000℃/大気中
ガラス封着高周波、電気炉等による加熱。還元炎による加熱は不可。封着温度1000~1200℃。
酸化膜の除去酸洗または電解
封着工程上の注意封着部に汚れ、油分は完全除去する事。予備脱ガス後はできるだけ速やかに封着作業に入ることが望ましい。焼込み過多は気密性に問題が生じる場合あり。コバールは加工歪が残ると銀ローが浸透する現象が見られる。除去とともにNiメッキ5μm以上を施すことが必要。

42アロイ(42Alloy)

特徴

  • 硬質ガラス、セラミックと熱膨張係数が近い

用途

  • 硬質ガラス
  • セラミック封着用
  • 電子管
  • 電子部品
スクロールできます
特性成分Ni 42  /Fe Bal
密度(g/Cm)8.15
融点(℃)1430
電気比抵抗0.635μΩ・m at20℃
熱伝導度(W/m・K)14.6
熱膨張係数(×10-7/℃)30~330℃   45~65
磁気変態点330℃
引張強さ(N/mm2)520(A材)
伸び(%)30(A材)
硬さ((Hv)135(A材)
エリクセン値(mm)9
該当規格ASTM-F30
封着用ガラス硼珪酸ガラス
加工機械加工SUS304と同程度の切削性・潤滑油を多めに使い、切削速度小
プレス・絞り打抜き性SUSと同等、深絞り率40%MAX
焼鈍800~1000℃×1/2~1/4h・徐冷
焼鈍条件ドライ水素中
溶接性
加工上の注意封着面に汚れ、疵なき事、油分は完全除去する事。バリはタンブリング等で除去する。研磨砥粒にSiCを使用すると発泡の原因となる。アルミナを使用する事。
封着作業脱ガス
(吸蔵ガス除去、脱炭、清浄化)
900~1000℃×1/2h~1/4h dry水素中
予備酸化膜の形成酸化膜が剥離し易いため予備酸化は行わない
ガラス封着高周波、電気炉等による加熱。還元炎による加熱は不可。封着温度1000~1200℃。
酸化膜の除去酸洗または電解
封着工程上の注意封着部に汚れ、油分は完全除去する事。予備脱ガス後はできるだけ速やかに封着作業に入ることが望ましい。焼込み過多は気密性に問題が生じる場合あり。

52アロイ(52Alloy)

特徴

  • 熱膨張係数が軟質ガラスに近い
  • ガラスとのなじみ、加工性良

用途

  • 硬質ガラス
  • セラミック封着用
  • 電子管
  • 電子部品
スクロールできます
特性成分Ni 42  /Fe Bal
密度(g/Cm)8.15
融点(℃)1430
電気比抵抗0.635μΩ・m at20℃
熱伝導度(W/m・K)14.6
熱膨張係数(×10-7/℃)30~330℃   45~65
磁気変態点330℃
引張強さ(N/mm2)520(A材)
伸び(%)30(A材)
硬さ(Hv)135(A材)
エリクセン値(mm)9
該当規格ASTM-F30
封着用ガラス硼珪酸ガラス
加工機械加工SUS304と同程度の切削性・潤滑油を多めに使い、切削速度小
プレス・絞り打抜き性SUSと同等、深絞り率40%MAX
焼鈍800~1000℃×1/2~1/4h・徐冷
焼鈍条件ドライ水素中
溶接性
加工上の注意封着面に汚れ、疵なき事、油分は完全除去する事。バリはタンブリング等で除去する。研磨砥粒にSiCを使用すると発泡の原因となる。アルミナを使用する事。
封着作業脱ガス
(吸蔵ガス除去、脱炭、清浄化)
900~1000℃×1/2h~1/4h dry水素中
ガラス封着高周波、電気炉等による加熱。還元炎による加熱は不可。封着温度1000~1200℃。
酸化膜の除去酸洗または電解
封着工程上の注意封着部に汚れ、油分は完全除去する事。予備脱ガス後はできるだけ速やかに封着作業に入ることが望ましい。焼込み過多は気密性に問題が生じる場合あり。